REVISTA DE INGENIERIA DYNA

El nuevo material Siliceno, de manera similar al Grafeno, está constituido por una lámina de átomos de Silicio. De una manera totalmente innovadora, científicos de la Universidad de Texas (USA) y el Instituto de Microelectrónica y Microsistemas (Italia) han usado este material para fabricar transistores, abriendo camino hacia la fabricación de chips de ordenador mucho más rápidos, pequeños y eficientes.

En 2007, Lok Lew Yan Voon, un físico en Ciudadela militar College de Carolina del sur, que publicó algunos trabajos sobre el Siliceno, estimó que las propiedades eléctricas de este material deben ser similares a las del Grafeno. En teoría, los electrones pueden atravesar el Grafeno y Siliceno sin encontrar muchos obstáculos, permitiendo circuitos muy rápidos.

Hasta hace unos pocos años, las posibilidades de fabricación del Siliceno eran algo meramente teórico. Sin embargo, las enormes expectativas generadas por el Grafeno, otro material con un grosor de un átomo, en este caso de carbono, representó un ejemplo práctico de cómo podía abordarse la elaboración de un material similar pero basado en el Silicio. Los investigadores comenzaron a pensar que también sería posible agrupar átomos de silicio para que integrasen una estructura similar a la del Grafeno. Ahora, por fin, se ha logrado demostrar que es factible trabajar con Siliceno de manera equiparable a como se trabaja con el Grafeno.

Ya se conocían las propiedades eléctricas excepcionales de este material, pero hasta la fecha era muy difícil de fabricar así como de trabajar con él, debido a su complejidad e inestabilidad al ser expuesto al aire.

Una vez fabricado el Siliceno, es necesario mantenerlo estable. Los investigadores encontraron una forma de solucionar este problema aportando Siliceno sobre una capa delgada de plata cubierta con óxido de aluminio. Finalmente, la plata es un patrón para hacer los contactos eléctricos de un transistor. Una vez terminado el dispositivo, es estable en condiciones de vacío.